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電子行業(yè)超純水設備

型號:YB-EDI-001

產(chǎn)水量:(可根據(jù)用戶要求而定)

適用范圍:

電子行業(yè)超純水設備是用于制備電阻率≥18.2 MΩ·cm(25℃)、雜質(zhì)含量極低(如TOC≤5 ppb、顆粒≤1個/ml)的高純度水的關鍵系統(tǒng),廣泛應用于半導體、集成電路、液晶顯示、光伏電池等電子元器件的生產(chǎn)過程中。
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產(chǎn)品介紹

  電子行業(yè)超純水設備是用于制備電阻率≥18.2 MΩ·cm(25℃)、雜質(zhì)含量極低(如TOC≤5 ppb、顆粒≤1個/ml)的高純度水的關鍵系統(tǒng),廣泛應用于半導體、集成電路、液晶顯示、光伏電池等電子元器件的生產(chǎn)過程中。

工藝設計

1. 預處理階段

多介質(zhì)過濾器:去除懸浮物、膠體、顆粒。

活性炭過濾器:吸附有機物、余氯。

軟化器:通過離子交換樹脂去除鈣鎂離子,防止結(jié)垢。

精密過濾器:5μm濾芯進一步截留微小顆粒。

2. 初級純化(RO反滲透)

反滲透(RO):脫除98%以上的離子、有機物和微生物,產(chǎn)水電導率≤10 μS/cm。

二級RO系統(tǒng)(可選):提高脫鹽率至99.5%以上。

3. 深度純化

EDI(電去離子):結(jié)合離子交換膜和電場作用,無需酸堿再生,產(chǎn)水電阻率可達5-15 MΩ·cm。

混床離子交換(可選):進一步將電阻率提升至18.2 MΩ·cm。

4. 終端精處理

UV紫外殺菌:185nm/254nm紫外線降解TOC并滅菌。

拋光混床:去除痕量離子,確保最終水質(zhì)達標。

  •  

設備特點

全自動化控制:PLC+觸摸屏,實現(xiàn)自動運行、沖洗、報警。

零排放設計:濃水回用,符合環(huán)保要求。

模塊化結(jié)構(gòu):便于擴展和維護。

低能耗設計:如能量回收裝置(ERD)降低RO能耗。

技術參數(shù)

電阻率:≥18.2 MΩ·cm(25℃)

TOC(總有機碳):≤1-5 ppb

顆粒物:≤1個/ml(粒徑≥0.1μm)

微生物:≤0.1 CFU/ml

離子含量:Na?、Cl?等≤0.01 ppb

溶解氧:≤1 ppb

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